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Nettoyage plasma  [ Retour vers  Applications  ]

Un plasma est un gaz qui est activé lorsqu'on le fait passer dans une zone de forte énergie électrique. Cette énergie va dissocier ou accélérer les molécules et les atomes et les mettre dans un état d'énergie très élevé.

Ce niveau d'énergie supérieur confère à ces particules la capacité de se lier avec la majorité des composés avec lesquels ils entrent en contact. Le plasma est généralement disponible sous deux formes, chimique et physique. Un plasma physique est un plasma au sein duquel les atomes sont accélérés en ligne droite orientée vers une surface afin d'attaquer cette surface. Un plasma chimique est un plasma dont les atomes se dissocient et deviennent hautement actifs. Le cas échéant, le gaz est dirigé par-dessus une surface, comme un nuage de gaz, afin de réagir avec toute impureté ou oxyde.

nettoyage plasma

Dans de nombreux processus, le plasma est employé afin de retirer les oxydes et les composés réductibles d'une surface ou d'attaquer physiquement une surface. Dans l'emballage des CI, le plasma sert à plusieurs endroits pour nettoyer les surfaces avant le collage, l'enrobage et la fixation de la matrice. Les gaz typiquement employés dans les plasmas peuvent comprendre des combinaisons d'argon, d'azote, d'hydrogène, d'oxygène et d'autres gaz moins courants (voir tableau ci-dessous). La majorité des équipements au plasma requièrent l'emploi du vide car le plasma est conçu pour être utilisé à de très basses pressions.

Cependant, de récents travaux d'Air Liquide et d'Acxys Technologies permettent d'utiliser le plasma à pression et température ambiantes. En permettant au plasma d'exister dans le cadre d'une pression atmosphérique, un véritable processus en ligne peut être effectué sans requérir d'étape sous vide par lot. Ce processus devrait permettre d'économiser sur les coûts et possède donc un avenir dans le domaine de l'emballage des CI.

 


Source Modification de la Surface Application
 Ar

 • Retrait de la Contamination (ablation)

• Réticulation

• Soudage des Connexions

• Fixation de la Matrice

• Polymère Substrat - Adhésion du Métal

O2

 • Retrait de la Contamination (chimique)

 

• Procédé d'oxydation activation de surface (retrait organique)

• Attaque

 • Soudage des Connexions

• Fixation de la Matrice

Adhésion du Moule et du Produit d'Enrobage

• Retrait du Photorésist

N2  • Activation de la Surface
• Adhésion du Moule et du Produit d'Enrobage
H2

 • Retrait de la Contamination (chimique)

• Procédé de Réduction (oxyde de métal)

CF4 & O2
SF6 & O2
• Attaque

• Attaque du Polymère - Démoulage des Fibres

• Retrait du Photorésist

• Attaque du Film Fin-Oxydes, Nitrures

     

 

Source Gaz contre Améliorations de la Surface au Plasma
(source Advanced Packaging Magazine, 02/02)



 























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